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- 1 步进器
- 2 光学系统
- 3 扫描仪
步进器
步进器（英语：stepper）是半导体器件制造设备之一，并且是缩小投影型曝光设备。硅，如晶片在电路烧伤，在晶片上的抗蚀剂被施加，所述标线片的图案的投影透镜，通过投影减少1/4至1/5，同时移动在晶片（工序）曝光到。固定于标线片和在露出所述一个曝光区域晶片曝光和装置，标线片和晶片同时移动曝光有设备和要。前者通常被称为“对齐器”，而后者则被称为“扫描器”。后一种类型适合于小型化，因为它可以使用具有良好特性的透镜中央部分进行曝光，但标线片和晶片由于必须彼此同步地进行曝光，因此结构变得复杂，并且设备的价格也很昂贵。此外，为了应对最近的小型化，已经投入了实用性，该方法被称为浸入法，其中投影透镜和晶片之间的空间填充有液体。从2019年起，将超纯水用于浸泡。在浸没法中，为了避免水对抗蚀剂的影响，通常涂覆称为面涂层的保护膜。由于面涂层的低疏水性能限制了步进机的生产率，因此化学制造商在开发疏水性能方面的竞争正在加速。
步进器的性能（最小线宽，每单位时间处理的张数）与半导体行业的竞争力直接相关，因此每个公司都在不断提高。
光学系统
分辨率是波长成比例，该数值孔径是成反比的。因此，波长短于可见光的紫外线（准分子激光器）被用作光源，并且具有高紫外线透射率的合成石英，氟化钙等被用作构成光学系统的透镜。另外，在近年来已投入实际使用的EUV（极端紫外线）曝光设备的光学系统中，使用由Mo / Si制成的镜子代替透镜。（因为EUV不能穿过镜头。）
扫描仪
近年来，曝光机采用扫描格式。在通过狭缝进行曝光的同时，在曝光期间，掩模版平台和晶圆平台同时沿相反的方向移动，从而可以在保持分辨率的情况下进行更大面积的曝光（例如，以9x25 mm的狭缝对35x25 mm的区域进行曝光）有可能。
这种方法的好处是
- 平均像差效果（只需要在狭缝处优化曝光镜头的光学特性）
- 用较小的镜头实现大的曝光区域（在批量曝光的情况下，镜头直径内刻的正方形是曝光区域，而在扫描仪的情况下，外接的正方形是曝光区域）
- 原则上，可以进行更好的聚焦控制
由于其种类繁多，因此现在是步进机的主流（粗加工的低价版本除外）。
尽管有许多优点，但是在曝光（同步控制）期间必须以相同的比例同时移动掩模版和晶片，并且实现的障碍很大。
